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VASCO KIN

in situ 非接触式 ナノ粒子径測定装置　VASCO KIN

非接触式で、In Situ測定可能！サンプル採取不要で通常の粒子径測定評価に加え、ナノ粒子合成モニタリング、保存容器から試料を分取することなく粒子径変化観察などバッチ式測定機ではできない評価を可能にします。
オプションの様々なリモートプローブにより高濃度サンプルの測定、温度制御測定、ミリ量範囲の流体の流動中の測定なども行うことが可能です。

特徴

VASCO KINは、動的光散乱方式（DLS）による測定で0.5nm～数μmまでの粒子径範囲を下記のように非接触で簡便に評価できます

原理

動的光散乱式(DLS)の特徴

DLSでは可視光レーザーをサンプル溶液に照射し、粒子のブラウン運動によって散乱した後方散乱光を経時で検知します。そこから①散乱光のゆらぎ（横軸を時間、縦軸を散乱光強度として散乱光の経時変化）を測定します。この散乱光のゆらぎを②自己相関関数に解析・変換し、ストークスアインシュタインの式を用いて解析の理論式とのフィッティング法により③粒子径分布を算出します。

DLSには以下の特徴があります。

・数μm以下のナノ粒子が主に対象
・装置は比較的小型
・定義径は流体力学径（電気二重層や吸着高分子を含んだ径）
・溶液の屈折率、粘度が必要
・基本的にはIntensity基準での粒子径分布で評価
・粒子屈折率がわかればvolume、number基準での粒子径分布も評価可能


非接触測定

VASCO KINは“in situ”測定を行うには理想的な装置です。容器の透明な部分を通じてレーザーを照射することができればどこでも測定可能で、例えばガラス瓶のまま測定を行うことが可能です。

本プローブヘッドを用いた測定には以下の特徴があります。

設置が簡便で、小型でプローブ型の検出器により狭い場所でも設置可能
・自動的に粒子径を測定してデータ蓄積可能
・メンテナンス不要、消耗品不要
・ガラスキャピラリーのような細い管中の粒子分散溶液の測定も可能
・頑丈かつコンパクトな設計で、過酷な産業プロセスモニタリングに最適
・ナノ粒子合成過程、透明容器内のサンプルの貯蔵安定性などのモニタリング可能
＊測定中は液体はほぼ停止している必要があります。

 

製品紹介動画

 
VASCO KINのアプリケーション

アプリケーションノートはこちら

「市販シリンジ内のナノ粒子およタンパク質のDLS非接触サイズ測定」
「シリンジ中のワクチン注射液のたんぱく質凝集のモニタリング　非接触-粒子径分布測定技術」
「ナノ粒子の粒子径測定に最適な動的光散乱式の特徴と、テーブルセル式・In-situ式測定装置の有用性」※雑誌記事

 

磁場下の非接触での粒子径測定

磁場により熱を発する粒子に磁場をかけたときの熱発生現象をモニタリング評価

シリンジ中の薬剤のモニタリング

貯蔵容器内でそのままで測定することで真の貯蔵安定性を評価できます。

 

オートサンプラーを組み合わせた測定のオートメーション化

オートサンプラーを併用して測定系を作り上げることも可能です。
測定サンプルをオートサンプラーで測定ヘッド前に自動で移動させ、自動測定することができます。

 その他にも、下記のような使用例がございます。

  • ナノ粒子合成のモニタリング

  • マイクロ波によるナノ粒子合成 “In situ” 測定による反応速度のモニタリング

  • 超臨界二酸化炭素合成反応装置内における粒子径計測

 

標準サンプルの測定例

ポリスチレン 100nm　標準サンプル

世界的に標準となっているNISTのポリスチレンを、バイアル瓶中で測定しました。
サンプリング不要で妥当性の高い結果が得られることが証明されています。

 
シリカ分散溶液（LUDOX🄬）
ナノ粒子においても、もちろん高感度に測定可能です。
 

 

他のリモートヘッド

非接触式のin situリモートヘッドを基本構成として、合計4種類のヘッドを用意しております。
 

 

希薄系、濃厚系の測定が可能(0.0001～40w%)

●短時間で測定可能

●複数の解析アルゴリズムを選択可能

●高分解能アルゴリズムの採用によりわずかな凝集体や微粒子の検知も可能

●自動でレポートを作成　データのまとめも簡単に

 

●4種類のリモートヘッドをご用意

in situリモートヘッド

用途

  • 非接触によるin situでの測定

  • 過酷環境、高圧環境、高温環境での測定

  • 有毒または不安定なサンプルの測定

  • 工業プロセスのモニタリング

主な利点

  • プロセスのナノ粒子の成長/運動のモニタリング

  • 非侵襲的/非破壊的で短時間での測定

検出角度

170°

測定距離

7-8cm　※他の距離については特注対応可能

最小サンプル量

10μL以下

溶媒適合性

あらゆる溶媒が可能

重量

400g

寸法（ヘッド）

120x25x50 mm (LWH)

寸法（ケーブル）

通常2m　※その他の長さについては特注対応可能
 
 

高濃度測定用DTCリモートヘッド

用途

  • 高濃度および不透明なサンプル

  • バッジ式による測定

主な利点

  • 設置面積が小さく、接続してすぐの使用が可能

  • 希釈なしの原液評価

  • 消耗品なし

検出角度

135°

濃度範囲

0.0001-40% ※サンプルによって異なります

サンプルセル

耐溶剤性内蔵セル、高耐薬品性溶融シリカプリズム製

最小サンプル量

4μL以下

重量

3.5kg

寸法（ヘッド）

250x185x110 mm (LWH)
 
 

温度制御リモートヘッド

用途

  • 温度制御セルによるバッチ測定（最大90℃）

  • バッジ式による測定

主な利点

  • 相互汚染のリスクなし

  • 有機溶媒と互換性あり

  • 設置面積が小さく、接続してすぐの使用が可能

検出角度

170°

測定温度

10-90℃

キュベットタイプ

10x10mmの一般的なキュベットセル対応

重量

500g

寸法

235x90x100 mm (LWH)
 

流体測定リモートヘッド

用途

  • マイクロ流体チップの出口での配合のサイズ分布

  • さまざまな流量での配合のリアルタイム制御

主な利点

  • 他のセットアップとの簡単な結合

  • リアルタイムでのプロセス制御

  • 交換可能なガラス製のミリ流体チャネル

検出角度

130°

粒子濃度範囲

0.00001-10% ※サンプルによって異なります

測定セル

1mm,2mm,4mmの内径のガラス毛細管

最小サンプル量

10μL

サンプル流量

毛細管径に応じて0.0-20 mL/分

重量

1kg

寸法

265x85x145 mm (LWH)

仕様

VASCO KIN with in-situヘッド

測定範囲 0.5～10,000nm
検出器 APD(アバランシュ・フォトダイオード)
レーザー光源 635nm、50mW
In Situヘッド測定距離 7～8cm
In Situヘッド
光ファイバーコード長		 2m（標準品）
1～50mも可。長い場合特注となる。
測定時間*2 通常約30秒　2秒 ～ 12時間
最短データ取得開始時間 200ms
温度センサー PT100センサー、測定精度 +/- 0.1℃
解析アルゴリズム Cumulants、Pade-Laplace、SBL
レーザー安全クラス Class 3b

サンプル

試料濃度*3 0.0001～40vol%
サンプル調製 その場で(In Situ）測定
分散溶媒 水系および有機溶剤系
最小量 50μL以下(セルに依存）、10mL瓶で3mL以上

操作性

ウォームアップ時間 5分以内
設置環境温度 15～40℃
保存環境 -10～50℃,  70%以下（結露しない事)

寸法・ユーティリティ

概略 W500×D500mm程度の作業スペースで設置可能(本体、PC)
本体寸法 制御部： 220 x 220 x 64 mm(HWD)   / 約3ｋｇ
ヘッド：　50 x 25 x 120 mm (HWD) / < 0.5 kg
電源 AC100V　50／60Hz　約10A 40W以下

導入事例

アプリケーション

ナノ粒子合成のモニタリングの為にVASCO Flex と小角X線散乱(SAXS)を用いた例
マイクロ波によるナノ粒子合成 “In situ” 測定による反応速度のモニタリング
超臨界二酸化炭素合成反応装置内における粒子径計測
ラックデリバリーにおける医薬品の磁気温熱実験

お役立ち資料ダウンロード

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技術情報

関連製品