【ウェビナーのご案内】超小角X線散乱法（USAXS）を用いたコロイド系の構造解析 9/16（木）

高分子微小領域におけるナノレベル構造解析には小角X線散乱（SAXS）装置が用いられていますが、凝集体のミクロンサイズ構造解析においては放射光施設の利用が必要とされてきました。今回ご紹介するXenocs社Xeuss 3.0では、ラボ機としてはめずらしく、Bonse Hart光学系の採用によりミクロンサイズのUSAXS構造解析が出来る様になりました。放射光施設のビームライン利用者や利用をご検討中の研究者の方にラボ向け超小角X線散乱装置の最新情報をお届けします。

【トピックス】

• 超小角X線散乱法で得られる情報
• USAXS/SAXS/WAXSの違いについて
• 次世代 小角X線散乱装置 Xeuss 3.0のシステム概要
• 高分子、コロイド系のアプリケーション事例

【開催日時】9月16日（木）12:10-13:00

※本ウェビナーは「第72回コロイドおよび界面化学討論会ランチョンセミナー」として企画されていますが、どなたでもご参加いただけます。

【参加費】無料

【言語】日本語

【お申込み】本ウェビナーは終了しました。