製品情報

in situ 非接触式 ナノ粒子径測定装置 VASCO KIN

in situ 非接触式 ナノ粒子径測定装置
VASCO KIN

遠隔・非接触式で、In Situ測定! ナノ粒子合成モニタイング、保存容器のまま粒子径変化確認などバッチ測定機ではできない評価を可能にします。

  • 概要
  • 特徴
  • 仕様
  • 導入事例事例

【In Situプローブがより高感度に!】

・非接触測定:レーザーを照射する窓さえあればどこでも測定可能 “in situ”測定には理想的な形状です。ガラス瓶のまま測定でき密閉して測定可能。
・簡便な設置:小型でプローブ型の検出器により狭い場所でも設置可能 装置に組み込んでの測定も可
・自動的に粒子径を測定しデータを蓄積します。
・簡単なメンテナンス:メンテナンス不要、消耗品不要
・ガラスキャピラリーのような細い管中の粒子も測定可能。
・頑丈、コンパクト設計:過酷な産業プロセスモニタリングに最適
・モニタリング例 ナノ粒子合成過程、透明容器内のサンプルの貯蔵安定性、他の装置との組み合わせ

*測定中は液体はほぼ停止している必要があります。

In situの例

磁場により熱を発する粒子に磁場をかけたときの熱発生現象をモニタリング評価

VASCO KIN ドラッグデリバリー

 

オプション
DTC測定ヘッド
VASCOのテーブルセルも使用可能 高濃度対応がしやすくなります。
温調オプション
10×10 mm2 のサンプルセルを使用し温調します。5~80℃対応です。
  • 特徴

●希薄系、濃厚系の測定が可能(0.0001~40w%)

●短時間で測定可能

●複数の解析アルゴリズムを選択可能

●高分解能アルゴリズムの採用によりわずかな凝集体や微粒子の検知も可能

●自動でレポートを作成 データのまとめも簡単に

 

 

  • 仕様

測定項目:粒子径分布(動的光散乱法・後方散乱方式)

粒子径分布測定

測定範囲*1 0.5~10,000nm
検出器 APD(アバランシュ・フォトダイオード)
レーザー光源 658nm、65mW(オプション:532nm)
In Situヘッド作動距離 4~40cm(アプリケーションに依存)
In Situヘッド光ファイバーコード長 1~20m(標準品:2mm)
測定時間*2 30秒~5分(シングルモード測定時)、最大120分(マルチモード測定時)
温度センサー PT100センサー、測定精度 +/- 0.1℃
解析アルゴリズム Cumulants、Pade-Laplace、SBL
レーザー安全クラス Class Ⅰ

サンプル

試料濃度*3 0.0001~40vol%
サンプル調製 希釈不要、その場で(In Situ)測定
分散溶媒 水系および有機溶剤系

操作性

ウォームアップ時間 5分以内
設置環境温度 15~40℃
保存環境 -10~50℃・70%以下(結露しない事)

寸法・ユーティリティ

概略 W500×D500程度の作業スペースで設置可能(本体、ノートPC)
本体寸法 W約342×D約271×H約132mm 重量:約12kg
電源 AC100V 50/60Hz 約10A 40W以下
  • 導入事例

アプリケーション

ナノ粒子合成のモニタリングの為にVASCO Flex と小角X線散乱(SAXS)を用いた例
マイクロ波によるナノ粒子合成 “In situ” 測定による反応速度のモニタリング
超臨界二酸化炭素合成反応装置内における粒子径計測
ラックデリバリーにおける医薬品の磁気温熱実験

技術情報 Technical information
  • 粒子径・分布・形状評価
  • インライン粒子径評価装置
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