半導体製造において、シリコン基板の表面にわずかな微粒子や汚れがあるだけで、製品性能や歩留まりに深刻な影響を及ぼすことがあります。本eBookでは、そうした課題に応えるための最新検査手法として、静的画像解析による表面清浄度評価を詳しくご紹介します。高精細なパノラマ画像と自動スキャン機能により、目視では捉えられない0.3μmレベルの欠陥や不純物まで検出し、粒径・形状ごとの分類や詳細分析を可能にします。品質基準の確保や工程改善のヒントをお探しの方に、有用な情報をまとめています。ぜひご覧ください。